Застосування випаровування пучка електронів

Застосування випаровування пучка електронів - підготовка плівки TiO 2 шляхом випаровування пучка електронів

Принцип нанесення покриття на випаровування пучка електронів для приготування плівки TiO 2 , використовуючи автоматичну оптичну систему покриття INTEGRITY-39 з випаровуванням електронного пучка з іонним променем, як показано на малюнку нижче.

0010010 nbsp; 1. Вхід охолоджувальної води; {{2}}. Випуск охолоджувальної води; 3. Тигель; 4. Промінь котушки; 5. Електронний передавач; 6. Нагрівальна лампа; 7. Рамка підкладки; 8. Двигун; 9. Моніторна плівка; 1 0. Робоча напруга зразка електронного пістолета, підготовленого для покриття джерелами іонів, становить 1 0 кВ, струм - {{2}} 00 А, а температура осадження вакуумної камери - 1 45 ~ 1 55 ℃. Для матеріалу мембрани було обрано чорний зернистий Ti 2 O 3 з чистотою 9 9. 99%. Cc - 1 05 промінь холодного катодного іона використовувався для допоміжного осадження. Під час осадження вакуумну камеру наповнювали O 2 чистотою 9 9. 99% як реакційний газ. Перед покриттям субстрат очищають скляним розчином, промивають деіонізованим 0010010 nbsp; вода та висушена азотом. Потім субстрат очищають за допомогою 99. 9% ацетону та безводної ультразвукової хвилі етанолу протягом 15 хв кожен. Після висихання спеціальним протираючим папером його завантажують у вакуумну камеру. Коли вакуум накачується до {{5}}. 5 × 10-4pa механічним насосом та дифузійним насосом, встановлюється процес автоматичного нанесення покриття. Коли підкладка нагрівається до температури осадження 1 5 0 ℃, джерело іонів починає бомбардувати підкладку, і енергія контролюється при {{5}} 0 ~ 9 0 eV за 10 хв.

потім електронний пістолет автоматично починає нагріватися і випаровувати плівковий матеріал, а швидкість осадження дорівнює 0. 38 ~ 0. 42 нм / с. Коли плівка наноситься до проектної товщини 440 нм, програма автоматично закриває електронний пістолет, і покриття завершується. Після нанесення покриття вакуумну камеру природним чином охолоджували до кімнатної температури і зразок відбирали. Спектральне випробування зразка TiO 2 проводили за допомогою спектрофотометра Ламбда 900 (тестовий діапазон 175 ~ 3 300 нм). Фактична товщина, коефіцієнт згасання та показник заломлення плівки TiO 2 були розраховані методом програмного забезпечення конвертів Macleod. Вплив різних ступенів вакууму на плівку, що формуєy, показник заломлення та коефіцієнт поглинання TiO 2 вивчали з різними потоками кисню високої чистоти у вакуумну камеру. Коли TiO 2 тонка плівка осаджується випарюванням за допомогою джерела іонів при високому ступені вакууму, зміна ступеня вакууму з проходженням кисню наведено в наступній таблиці. Оскільки молекули кисню у вакуумній камері іонізуються в іони кисню і реагують повністю з молекулами пари Ti {{2}} O 3 , кисень втрачається при розкладанні Ti {{{{{}} }}} O 3 поповнюється, і отриманий TiO 2 у фільмі є відносно чистим. Однак якщо запас кисню недостатній або реакція між Ti {{2}} O 3 і O 2 є недостатньою, плівка оксиду титану з високим поглинанням тино {{{{ 4}}}} п - 1 (n=1, {{2}}, ..., 1 0). Зі збільшенням потоку кисню ймовірність зіткнення між молекулами пари TiO 2 і молекулами кисню в процесі підйому випаровування збільшується і втрачається енергія, що зменшує кінетичну енергію TiO 2 , що осідає на субстраті. поверхні і впливає на адгезію та ущільнення нанесеної плівки. Для оптичних тонких плівок допомога джерела іонів може збільшити кінетичну енергію молекул на поверхні підкладки, не тільки істотно впливає на показник заломлення плівки, але також може підвищити щільність плівки і вологостійкість, і плівку адгезія на підкладці також значно покращується.

IKS-OPT2700 optical E-gun vacuum coating machine，more details,contact: iks.pvd@foxmail.com