Основний принцип іонного покриття

Основний принцип іонного покриття: у вакуумних умовах використовується деяка технологія іонізації плазми для іонізації частини атомів покривного матеріалу в іони. При цьому утворюється багато нейтральних атомів з високою енергією. Таким чином, під дією глибокого негативного зміщення іони осідають на поверхні підкладки, утворюючи тонку плівку.

IKS PVD Technology (Shenyang) Co., Ltd manufacturer Виробник машини для вакуумного покриття PVD з Китаю, наш основний продукт: декоративні машини для нанесення покриттів, машини для нанесення покриттів на інструменти, машина для оптичного нанесення покриттів, лінія покриття PVD. Детальніше, контакт: iks.pvd@foxmail. ком