Що таке фізична осадження?

Фізична осадження (PVD) описує різні вакуумного нанесення методів, які можуть бути використані для виробництва тонких плівок і покриттів. PVD характеризується процес, в якому матеріал йде з конденсованих фази парів етапі а потім назад на тонку плівку конденсованих фази. Найбільш поширені процеси PVD є напилення і випаровування. PVD використовується при виготовленні елементи, які вимагають тонких плівок для механічних, оптичні, хімічного або електронні функції. Приклади включають напівпровідникових приладів таких як тонка плівка сонячних панелей, aluminized фільм Пет Флакони харчового призначення і повітряні кулі і покриттям ріжучий інструмент для металообробки. Крім PVD інструменти для виготовлення розробили спеціальний менші інструменти (в основному в наукових цілях).

Загальні промислових покриттів застосовувана PVD є нітриду титану, цирконій нітрид, хрому нітриду титану нітриду алюмінію.

Вихідним матеріалом є неминуче також розміщені у більшості інших поверхонь внутрішніх справ до вакуумної камери, у тому числі на fixturing використовуються для зберігання частин.

Приклади

● Катод дуговим осадженням: В яких потужного дугових скидаються в цільової (джерело) матеріал вибухи геть деякі в високо іонізованою пар на зберігання на заготовки.

● Електронний промінь фізична осадження: У якому матеріал на зберігання нагрівається до високим тиском пар електрон бомбардування у "висока" вакуум і морським шляхом дифузії на зберігання конденсату на (кулер)-разі вдавлювання.

● Назад в Мельбурні осадження: У якому матеріал на зберігання розігрівається до високий тиск насичених парів електричний опір опалення у "висока" вакуум.

● Імпульсного лазера осадження: В якому потужного лазер ablates матеріал від мети в пар.

●Розпилення осадження: У якому світіння плазмових розряду (локалізуються навколо на "цільової"магніт) типу матеріал напилення деякі геть як пара для подальшого осадження.

● Пульсуюче електрон осадження: У якому дуже енергійних пульсуюче електронний промінь ablates матеріалу з цільового генеруюча потоку плазми умовах нерівноважних.

● Методом сублімації сендвіч: використовується для створення штучних кристалів.

Різні методи характеристика тонка плівка може використовуватися для вимірювання фізичні властивості покриття PVD, таких як:

● Кало тестера: тест покриття товщиною

● Nanoindentation: твердість тест для тонких плівок покриттів

● Закріпіть на диск тестера: зносу і тертя коефіцієнт тест

● Скретч тестера: тестування Адгезія покриття

● Рентген-мікро аналізатора: дослідження структурних особливостей і неоднорідності елементний склад для зростання поверхонь

Порівняння з іншими методиками осадження

Переваги

● Покриття PVD, іноді важче і більш корозійностійких ніж покриттів стосовно electroplating процесом. Більшість покриття високої температури і добре ударна в'язкість, стійкість до стирання відмінні і так довговічні, що захисний topcoats майже ніколи не є необхідними.

● Можливість використовувати практично будь-який тип покриття деяких органічних і неорганічних матеріалів на різноманітних однаково Група субстратів і поверхонь, використовуючи широкий спектр обробки.

● Більш екологічно чисті, ніж традиційні покриття процеси, такі як гальваніки та живопису. [Джерело?]

● Більш ніж одну техніку можна внести даний фільм.

Недоліки

● Конкретних технологій може накладати обмеження; Наприклад, видимості лінії передачі є типовим для більшості PVD покриттям методи, однак існують методи, які дозволяють повне покриття комплекс геометрії.

● Деякі технології PVD зазвичай діють на дуже високих температур і вакуум, що вимагає особливої уваги, обслуговуючий персонал.

● Вимагає системи охолодження води для розсіювання великих теплових навантаженнях.