Чотири етапи процесу PVD-технології
Mar 02, 2022| Чотири етапи процесу PVD-технології
(1) Cleaning the workpiece: dc power supply is switched on, argon gas glow discharge is argon ion, argon ion bombards the surface of the workpiece, and the particles and dirt on the surface of the workpiece are splashed out;
(2) Газифікація покриття: після підключення змінного струму покриття випаровується та випаровується.
(3) міграція іонів покриття: атоми, молекули або іони, що надходять від джерела газифікації, швидко спрямовуються до заготовки з високою швидкістю після зіткнення та електричного поля високого-тиску;
(4) осадження атомів, молекул або іонів на підкладці: іони випаровування на поверхні заготовки перевищують кількість іонів, що розбризкуються, і поступово накопичуються, утворюючи шар покриття, міцно приклеєний до поверхні заготовки.
Після іонізації частинками іонного покриття матеріал випаровування має кінетичну енергію від трьох тисяч до п’яти тисяч електрон-вольт, артефакти високошвидкісного бомбардування, не тільки швидкість осадження швидка, і вона здатна проникати через поверхню, утворюючи глибоку в матричний дифузійний шар, глибина дифузії інтерфейсу іонного покриття становитиме чотири-п'ять мікрон, тобто, ніж глибина дифузії звичайного вакуумного покриття в десятки разів, навіть у сто разів, тому вони дуже міцно прилипають один до одного.
Компанія IKS PVD, машина для нанесення декоративних покриттів, машина для нанесення покриття для інструментів, машина для нанесення покриттів DLC, машина для нанесення оптичних покриттів, лінія для вакуумного нанесення покриттів PVD, доступний проект під{0}}під ключ. Зв’яжіться з нами зараз, E-email:iks.pvd@foxmail.com