Огляд технології HiPIMS
Jun 21, 2018| Технологія магнетронного напилення широко використовується в області підготовки тонких плівок. Застосування декоративного покриття та нанесення інструменту досить поширене.
Проте технологія обробки магнетронного напилення має багато обмежень. Наприклад, коли струм розпилення великий, це означає, що щільність потужності магнетронного розпилення мішенню обмежується цільовим тепловим навантаженням, бомбардування мішені з надмірно позитивними іонами може призвести до перегріву та спалювання об'єкта розпилення. Крім того, він також має недоліки обмеженої енергії напилення та швидкості іонізації низьких металів.
В останні роки розроблена технологія імпульсного магнетронного розпилення високої потужності (HiPIMS) вдома та за кордоном, і це обмеження було значно ослаблено. Пікова потужність потужного імпульсного магнетрона розпилення приблизно в 100 разів перевищує звичайне магнетронне напилення. Швидкість іонізації розпиленого матеріалу надзвичайно висока, і цей високо іонізований промінь не містить великих частинок. Таким чином, високоякісна плівка може бути легко отримана технологією HiPIMS.
Оскільки час дії імпульсу становить декілька сотень мікросекунд, середня потужність HiPIMS порівнянна з потужністю звичайного магнетронного розпилення, так що вимога охолодження мішеней магнетрону не збільшується. Хоча миттєва потужність потужного імпульсного магнетрона розпилення висока, її середня потужність не висока, тому її можна широко використовувати.