Осадження розпиленням

· Осадження розпиленням

Під час бомбардування високоенергетичними частинками на твердій поверхні, частинки на твердій поверхні можуть отримати енергію та вийти з поверхні, а осаджене на підкладку явище розпилення почало використовуватися в технології плівкового покриття в 1870 році та поступово використовувалося в промислове виробництво після 1930 року через збільшення швидкості осадження, як правило, матеріал, який осаджується в пластинчасту мішень, закріплену на катоді. Підкладка розміщується на аноді прямо навпроти поверхні мішені, на відстані кількох сантиметрів від мішені, система накачується до високого вакууму, а потім заповнюють 10~1 Па газу (зазвичай аргону). Між катодом і анодом прикладається напруга в кілька тисяч вольт, і між полюсами генерується тліючий розряд. Розряд позитивних іонів в електричному полі під дією летить до катода, і зіткнення атомів поверхні мішені, зіткнення вихід атома мішені з поверхні мішені, який називається розпилюючим атомом, енергія в діапазоні від 1 до десятків електронвольт. WC Mo WC TiC та інша вогнетривка плівка для напилення суміші може бути використана методом реактивного розпилення, тобто реакційний газ (ON HS CH тощо) додається до газу Ar, реакційний газ та його іони та цільові атоми або атоми розпилення реагують на генерувати сполуки (наприклад, нітрид оксиду тощо) і наносити на підкладку, нанесену ізоляційну плівку можна використовувати методом високочастотного напилення Цільова підкладка в заземлюючому електроді, ізоляція встановлена ​​на протилежному електроді. отримана мережа та ємність постійного струму, заповнена ізоляційною платою, ізоляційний електрод, підключений до високочастотного джерела живлення, високочастотна напруга змінює полярність плазми електронів і позитивних іонів у позитивному півперіоді напруги та негативному півперіоді відповідно до ізоляції на мішені Оскільки Рухливість електронів вища, ніж у позитивних іонів, ізолююча поверхня мішені з негативним зарядом, у динамічній рівновазі мішень знаходиться в негативному потенціалі зміщення, так що розпилення позитивних іонів на мішень продовжує використовувати магнетронне розпилення може збільшити швидкість осадження, ніж немагнетронного розпилення збільшується майже на порядок

Компанія IKS PVD, машина для нанесення декоративних покриттів, машина для нанесення покриттів на інструменти, машина для нанесення покриттів DLC, машина для оптичного нанесення покриттів, лінія вакуумного нанесення PVD покриттів, доступний проект під ключ. Зв'яжіться з нами зараз, електронною поштою:iks.pvd@foxmail.com