Дуже високочастотне плазмове хімічне осадження з парової фази (VHF-PECVD)

Коли тонкі плівки готуються за технологією RF-PECVD, щоб досягти низькотемпературного осадження, як реакційний газ необхідно використовувати розбавлений силан, тому швидкість осадження обмежена. Технологія VHF-pecvd широко використовується в практичних застосуваннях, оскільки плазма, збуджена VHF, має нижчу електронну температуру та вищу густину, ніж плазма, створена традиційними радіочастотами [2], що може значно покращити швидкість осадження плівки.

Компанія IKS PVD, машина для нанесення декоративних покриттів, машина для нанесення покриттів на інструменти, машина для нанесення покриттів DLC, машина для оптичного нанесення покриттів, лінія вакуумного нанесення PVD покриттів, доступний проект під ключ. Зв'яжіться з нами зараз, електронну адресу: iks.pvd@foxmail.com